切片，清洗，制备绒面，周边刻蚀，去除背面PN+结，制作上下电极，制作减反射膜，烧结，测试分档等10步。

　　太阳能电池具体的制作工艺说明

　　（1） 切片：采用多线切割，将硅棒切割成正方形的硅片。

　　（2） 清洗：用常规的硅片清洗方法清洗，然后用酸（或碱）溶液将硅片表面切割损伤层除去30－50um。

　　（3） 制备绒面：用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。

　　（4） 磷扩散：采用涂布源（或液态源，或固态氮化磷片状源）进行扩散，制成PN+结，结深一般为0.3－0.5um。

　　（5） 周边刻蚀：扩散时在硅片周边表面形成的扩散层，会使电池上下电极短路，用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。

　　（6） 去除背面PN+结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PN+结。

　　（7） 制作上下电极：用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极，然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。

　　（8） 制作减反射膜：为了减少入反射损失，要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有MgF2 ，SiO2 ，Al2O3 ，SiO ，Si3N4 ，TiO2 ，Ta2O5等。工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法，溅射法、印刷法、PECVD法或喷涂法等。

　　（9） 烧结：将电池芯片烧结于镍或铜的底板上。

　　（10）测试分档：按规定参数规范，测试分类。